XRD分析に係る装置2台が更新されましたので紹介します。 従来機に比べて輝度向上と高感度検出器のおかげで約4倍S/Nが向上しています。 従来機でできなかったアプリケーションとして以下の測定が可能になりました。
①広角X線回折測定装置 ・低粘度材料の測定が可能 ・微小部測定が可能(0.4mmφ程度まで) ・斜入射回折測定(GI-XRD):低角度入射により表層付近の結晶性配向を評価 ・X線反射率法(XRR):薄膜の厚みや密度を計算 ・残留応力測定:sin2ψ-2θ線図での巨視的な応力測定結果を返せます
②小角X線散乱装置 ・1mmφ程度の微小ビームを使用 ・希薄系粒子の粒子径分布や粒子間距離 ・濃厚系粒子の粒子間距離(但し、材料を選ぶ)
TOF-SIMSを導入しました。 これにより、極表面(表面1-2nm程度)の微量分析(ppmレベル)が可能になります。 また、Arクラスタイオン銃を使ったデプス分析、嫌気性分析にも対応しており、以下の分析が可能になります。 ・金属・半導体表面の微量有機成分の定性 ・めっき上のシミ定性(インナーリードなど) ・フィルム表面物性不良解析(ハジキ、濡れ性低下など) ・印刷不良解析(刷版など) ・接着不良、はがれ解析(MEA、タッチパネル接着剤など) ・表面処理定性(ガラス繊維表面など) ・フィルム組成、コート成分定性(多層フィルム、撥水膜など)
nano IRはAFMとIRを組合せたナノスケール分解能を実現する分析手法です。 IRによる組成情報のほか、熱物性、機械強度、表面粗度の情報も得ることができます。 約100nmの空間分解能を生かして、以下のような分析が可能になります。 ・超微小異物の定性ができます ・超薄層の定性ができます ・ポリマーアロイの相分離構造を組成情報を元に可視化できます ・構造情報と物性特性を照合して多角的な解析ができます ・ナノIRⅠと違い、薄切片化困難な試料も測れます 例:金属部材表面のコート層、金属部材上の異物
切削時の熱ダメージを防げるクライオイオンミリング装置を導入しました。 これにより、以下のような対応が可能になります。 ・有機物や低融点サンプルなどを、低ダメージで切削処理することが可能です ・嫌気下での処理も可能です ・広い面積(φ1mm)の断面を作製することが可能です
低加速SEM-EDS装置を導入しました。従来より広角度で特性X線を取り込むことで、検出器が高感度になりました。 検出器の高感度化により、低加速電圧での測定が可能になり、以下のような分析が可能になります。 ・軽元素(C、O、N、Fなど)の測定が可能です ・空間分解能が劇的に向上します(50nm以下)
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