X線反射率法(XRR法)は電子デバイス等のナノメートルスケール薄膜・多層膜の厚み、密度、表面や界面のラフネスを同時に評価することができる。
解析の結果、Si3N4膜は一層ではなく、極表層に密度の低い層が存在することがわかった これは他の分析装置では検出できず、設計時には想定していなかった層構成も明らかにできた
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