概要
シリコン結晶を溶解させ、結晶中の不純物濃度分析をおこないます。
今回ご紹介する分析法は、誘導結合プラズマ質量分析（ＩＣＰ-ＭＳ）です。
前処理
- シリコン結晶に酸を加えて完全に溶液化させることで、含有不純物の濃度分析をおこないます。
- 特殊な前処理法を採用することでケイ素の影響を排除し、揮発性の高いホウ素について回収率よく分析をおこなうことを可能にした。
溶解の模式図
測定装置と定量下限値
四重極型のＩＣＰ-ＭＳでは多原子イオンの干渉（15Ｎ16Ｏ、14Ｎ16Ｏ1Ｈ）によりリンの微量分析は困難だが、高分解能のＩＣＰ－ＭＳを用いることで、多原子イオンを分離できるため、リンの微量分析が可能となる。
四重極ＩＣＰ－ＭＳのスペクトルイメージ
高分解能ＩＣＰ－ＭＳのスペクトルイメージ
| Ｎａ | Ａｌ | Ｃａ | Ｆｅ | Ｐ | Ｂ | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 定量下限（ｎｇ／ｇ） | １０ | １０ | １０ | １０ | １０ | ２０ |
※上記元素以外も測定可能
検索番号3020