概要

  • CMPで使用される研磨液中の微量金属/無機元素の定量における課題は、ケイ素などの主成分(%レベル)による妨害ないし汚染です。
  • 比較的汚染に強い発光分析法に発光検出のスループットを向上させた新型装置で10ppbまでの微量元素を定量いたします。
  • 分析手法 誘導結合プラズマ原子発光分析法 同軸方向観測型トーチ方式

新型トーチによるスループット

  • 発光プラズマの観測ゾーンを従来の点(縦型)から横(横型)にすることによって、検出器に入るフォトン量を増加させることが可能になりました。
  • 自己吸収などによるバックグランドの上昇もエアーナイフにより改善する工夫が施されています。

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