概要

電子部品の絶縁材料に不純物イオンが含まれていると欠陥の原因となり、性能・信頼性が低下します。

Siウエハやガラス基板表面のイオン成分をイオンクロマトグラフにより分析する際、濃縮カラムを用いることで高感度に測定ができます。

測定対象イオン

アニオン F-、Cl-、NO2-、NO3-、PO43-、SO42-、有機酸
カチオン NH4+、アミン類(MMA、DMA、TMA)

分析手法

超純水抽出 ⇒ 濃縮イオンクロマトグラフ測定

対象基板

12インチまでのシリコンウェハ、50×75cmまでのガラス基板など

シリコンウェハ

ガラス基板

検出下限値 (抽出液量20mlの場合)

※抽出液量や材料の表面積など、測定条件により下限値は異なります

検索番号3004

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